Эрлангенскі Інстытут інтэграваных сістэм і прылад Fraunhofer IISB і вытворца мікрахвалевых і радыёчастотных плазменных сістэм PVA TePla AG з Веттэнберга аб'ядноўваюць свой вопыт у сумеснай лабараторыі па вытворчасці крышталяў нітрыду алюмінію (AlN).
Гэта партнёрства, якое ўпершыню праводзіцца ў Еўропе, дазваляе прамыслова падтрымліваць дробнасерыйную вытворчасць монакрышталічных падложак AlN дыяметрам 2 цалі для мэт даследаванняў і распрацовак. Гэта значна паляпшае даступнасць падложак AlN у Еўропе, што, у сваю чаргу, паскарае распрацоўку прылад і сістэм на аснове AlN і іх пераход да прамысловага прымянення.
Нітрыд алюмінію — адзін з найбольш перспектыўных матэрыялаў для наступнага пакалення высокапрадукцыйнай электронікі. Як паўправаднік з ультрашырокай забароненай зонай (UWBG), AlN адкрывае новыя магчымасці ў фатоніцы, сілавой электроніцы, высокачастотнай электроніцы і электроніцы, якая працуе ў экстрэмальных умовах. Да сённяшняга дня дэфіцыт высакаякасных, вялікай плошчы і эканамічна эфектыўных падложак AlN стрымлівае распрацоўку электронных сістэм на аснове AlN.
«З дапамогай сумеснай лабараторыі мы закладваем аснову для забеспячэння надзейных паставак падложак AlN з Еўропы, тым самым адкрываючы новыя перспектывы для наступнага пакалення высокапрадукцыйных прылад AlN», — кажа доктар Свен Безендёрфер, кіраўнік групы па нітрыдных матэрыялах і адказны за распрацоўку матэрыялаў AlN у Fraunhofer IISB. «Разам з PVA TePla мы ўносім свой уклад у прамысловы рост крышталяў, тым самым ствараючы перадумовы для пераносу на канкрэтныя прымяненні».
Правераная тэхналогія абсталявання адпавядае запатэнтаваным тэхналагічным ведам працэсу
У сумеснай лабараторыі Fraunhofer IISB выкарыстоўвае запатэнтаваную тэхналогію PVT (фізічны транспарт пары) для атрымання аб'ёмных крышталяў AlN памерам 2 цалі. У гэтым працэсе парашок AlN выпараецца ў тыглі пры тэмпературы значна вышэй за 2000°C і наносіцца на затраўку. PVA TePla прапануе для гэтай мэты сістэмы PVT, якія ўжо выкарыстоўваюцца ва ўсім свеце для крышталяў карбіду крэмнію (SiC) дыяметрам 8 цаляў і цяпер спецыяльна адаптаваны для вырошчвання крышталяў AlN памерам 2 цалі.
Дзякуючы вопыту ў галіне працэсаў, набытаму Fraunhofer IISB, каманда PVA TePla змагла хутка вырабляць крышталі AlN параўнальнай якасці на ўласных аб'ектах. Аб'яднаная лабараторыя сканцэнтравана на стабільнай вытворчасці невялікіх партый крышталяў AlN памерам 2 цалі. Зараз вытворчасць паступова павялічваецца для сістэматычнай аптымізацыі стабільнасці працэсу, узнаўляльнасці, выхаду і структуры выдаткаў.
«З дапамогай нітрыду алюмінію мы актыўна фарміруем наступнае пакаленне тэхналогій, наступных пасля карбіду крэмнію», — кажа доктар Ян Пфайфер, віцэ-прэзідэнт па даследаваннях і распрацоўках у PVA TePla. «Дзякуючы сумеснай лабараторыі мы можам непасрэдна аб'яднаць наш вопыт у галіне абсталявання з тэхналагічнымі ведамі Fraunhofer IISB, што дазваляе нам прапаноўваць рынкава-арыентаваныя рашэнні нашым глабальным кліентам на ранняй стадыі», — дадае ён. «Наша агульная мэта — стымуляваць развіццё рынку ў сектары AlN з дапамогай прыдатных падложак і падтрымліваць кампаніі, якія жадаюць увайсці ў гэтую сферу ў якасці тэхналагічных партнёраў з патрэбным абсталяваннем і адпаведным вопытам у галіне працэсаў».
Умацаванне еўрапейскага тэхналагічнага суверэнітэту праз маштабаванне прамысловасці
Крышталі AlN, якія вырабляюцца ў Аб'яднанай лабараторыі, далей апрацоўваюцца ў Fraunhofer IISB у гатовыя да выкарыстання падкладкі AlN, і праз даследчую і распрацоўчую кампанію LZE GmbH з Эрлангена яны спецыяльна пераводзяцца ў працэсы прамысловай распрацоўкі і маштабавання. «Для паўправадніковага суверэнітэту Еўропы вельмі важна не толькі распрацоўваць новыя ключавыя матэрыялы, але і хутка пераносіць іх у прамысловае прымяненне і стварэнне маштабуемай каштоўнасці», — кажа кіруючы дырэктар LZE доктар Крысціян Форстэр. «Дзякуючы свайму рынку перадавых тэхналогій, LZE GmbH забяспечвае кампаніям і навукова-даследчым установам унікальны ва ўсім свеце і адкрыты доступ да падкладак AlN. Такім чынам, мы дапамагаем гарантаваць, што перспектыўныя прыкладання для прамысловых рынкаў з вялікімі аб'ёмамі будуць выведзены на рынак хутчэй».
Час публікацыі: 20 ліпеня 2026 г.